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采用ZrCl4-CO2-H2-Ar体系，在不同温度或氢气流量条件下采用常压化学气相沉积法（APCVD）通过不同沉积流程在C／C样品表面制备ZrO2涂层。用x射线衍射分析仪（XRD）和扫描电镜（SEM）分析涂层的物相组成和形貌特征。结果表明：随沉积温度升高，ZrO2涂层表面形貌由小颗粒堆积态向大尺寸多晶转变；氢气流量为0时，只在局部区域出现了少量ZrO2，当氢气流量为400mL／min时，ZrO2涂层晶粒尺寸较大且晶体学平面特征最明显；在氢气流量为800mL／min时沉积出现了副产物ZrC与C；在氢气流量为