【摘 要】
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采用低压等离子体化学气相沉积 (LPP CVD)并结合反弹盘方法在靶球表面涂敷厚的CxH1-x涂层。使用反式 2 丁烯为工作气体的沉积速率相对较慢 ,最高为 1μm/h ,而使用苯乙烯时
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激
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采用低压等离子体化学气相沉积 (LPP CVD)并结合反弹盘方法在靶球表面涂敷厚的CxH1-x涂层。使用反式 2 丁烯为工作气体的沉积速率相对较慢 ,最高为 1μm/h ,而使用苯乙烯时 ,沉积速率提高到 3～ 4μm/h。结合反弹盘技术 ,在塑料微球上涂敷了厚度为 5 0～ 80 μm的CxH1-x涂层 ,涂敷薄膜的表面均方根粗糙度小于 5 0nm。
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