【摘 要】
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1.序言在现今半导体器件制造中不可缺少的光刻技术,由于与整个工艺相关的各技术的改进,使光刻的加工精度正在接近受光学波长限制的精度范围。但是,当把光刻技术作为唯一不可
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1.序言在现今半导体器件制造中不可缺少的光刻技术,由于与整个工艺相关的各技术的改进,使光刻的加工精度正在接近受光学波长限制的精度范围。但是,当把光刻技术作为唯一不可缺少的方法来制造器件时,大多数情况都要在困难的条件下实现高精度光刻。本文针对这类问题一一归结讨论结果,分节讲述底版问题的探讨,衬底表面不平整度较大时的抗蚀剂涂敷,金、铬、氧化铝、铝及硅等薄膜的高精度光刻,磷处理后的二氧化硅的高精度光刻等。此外,对于过去在实验室探讨得较少的光致抗蚀剂KPL(柯达光敏漆)及KMER(柯达金属腐蚀抗蚀剂),也从应用的
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