硅烷外延淀积多晶硅

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SiH_4-H_2-HCl系统用于淀积多晶硅膜,有着SiCl_4外延无法比拟的优越性,其生长温度最佳值在1050℃,生长速度从实验趋势上来看远远超过了SiCl_4外延.外延质量也比SiCl_4外延好.所以,在一些特殊器件的制造中采用本系统是完全必要的. SiH_4-H_2-HCl system for the deposition of polycrystalline silicon film, with the superiority of SiCl_4 epitaxial incomparable, the optimum growth temperature at 1050 ℃, the growth rate from the experimental trend far beyond the SiCl_4 epitaxial. The epitaxial mass than SiCl_4 epitaxy good.So, in some special devices in the manufacture of the system is completely necessary.
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