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采用ZrCl 4-CO 2-H 2-Ar体系，于900~1500℃下用常压化学气相沉积法（APCVD）在C/C-SiC和C/C-ZrC基体上分别制备ZrO 2涂层。采用X射线衍射分析仪（XRD）和扫描电镜（SEM）分别分析ZrO 2涂层的相组成和形貌特征。利用微/纳米力学综合测试仪测量涂层的微观力学性能及与底层的界面结合力。结果表明：在900、1150、1300和1500℃这4种温度下制备的ZrO 2涂层均为单斜相；随着沉积温度的升高，ZrO 2涂层表面形貌由小颗粒堆积态向大尺寸多晶转变，涂层厚度逐渐增加