退火处理对激光诱导化学气相沉积制备纳米硅红外光谱的影响

来源 :中山大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:smallfishyl
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研究激光诱导化学相沉积(LICVD)法制备纳米硅粒子的工艺过程,分析了影响纳米硅形成及尺寸的主要工艺参数,获得了最佳的工艺条件并讨论了退火处理对纳米硅红外光谱各吸收峰的强度,位置和退火气氛与退火温度的关系
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