最新高功能CVD成膜技术

来源 :国外金属热处理 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ai2676886

【摘要】

：

随着工业技术的快速发展,对工业材料高功能、高性能化的要求也更高.作为高功能的工艺技术有气相沉积法.气相沉积大体分为两类即化学气相沉积法(CVD法)与物理气相沉积法(PVD法

【作者】

：

王冰张玉河

【机构】

：

济南轻骑发动机有限公司

【出处】

：

国外金属热处理

【发表日期】

：

2002年3期

【关键词】

：

化学气相沉积薄膜半导体等离子体

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随着工业技术的快速发展,对工业材料高功能、高性能化的要求也更高.作为高功能的工艺技术有气相沉积法.气相沉积大体分为两类即化学气相沉积法(CVD法)与物理气相沉积法(PVD法).特别是CVD法,由于是通过在气相中或在基板表面的化学反应形成所要求的材料的薄膜,因此通过控制流入反应室内的化合物气体,可以高纯度地合成多种材料.

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