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文章以2004年-2007年上半年发表的半固化片浸渍加工技术与设备的日本专利为研究对象，对此创新内容及思路加以综述。
对日本在浸渍加工技术与设备方面创新的综述（上）
【摘 要】
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文章以2004年-2007年上半年发表的半固化片浸渍加工技术与设备的日本专利为研究对象，对此创新内容及思路加以综述。
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2007年9期
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