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本文从熔体组分挥发产生杂质这一观点出发，研究了二元化合物ＡｍＢｎ熔体中的杂质产生率以及过剩组分杂质在熔体和晶体中的浓度，并导出了浓度分布的数学表达式，分析了组分挥发对熔体提拉法晶体生长的影响，并对其结果进行了讨论。
组分挥发对熔体提拉法晶体生长的影响
【摘 要】
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本文从熔体组分挥发产生杂质这一观点出发，研究了二元化合物ＡｍＢｎ熔体中的杂质产生率以及过剩组分杂质在熔体和晶体中的浓度，并导出了浓度分布的数学表达式，分析了组分挥发对熔体提拉
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所
【出 处】
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人工晶体学报
【发表日期】
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1995年1期
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