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随着集成电路的迅速发展,高K值柵介质材料将成为下一代MOS器件最具有希望的候选材料,HfO2具有宽带隙和高介电常数而备受关注。本文简述了HfO2薄膜的制备方法及研究进展。
二氧化铪（HfO2）薄膜制备的研究进展
【摘 要】
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随着集成电路的迅速发展,高K值柵介质材料将成为下一代MOS器件最具有希望的候选材料,HfO2具有宽带隙和高介电常数而备受关注。本文简述了HfO2薄膜的制备方法及研究进展。
【机 构】
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陕西科技大学材料科学与工程学院,河南大学,陕西宝光集团股份有限公司
【出 处】
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陶瓷
【发表日期】
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2009年02期
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