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本文介绍了直流磁控溅射方法制备Au／Gd多层膜，探索了多层膜的制备工艺参数，利用X射线衍射表征了多层膜的界面结构及混和膜的晶型结构，原子力显微镜观察了膜的表面形貌和粗糙度。成功地制备了膜层厚度控制精确、界面清晰和表面光洁的Au／Gd多层膜。
直流磁控溅射法制备金钆多层膜
【摘 要】
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本文介绍了直流磁控溅射方法制备Au／Gd多层膜，探索了多层膜的制备工艺参数，利用X射线衍射表征了多层膜的界面结构及混和膜的晶型结构，原子力显微镜观察了膜的表面形貌和粗糙度。
【机 构】
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中国工程物理研究院
【出 处】
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中国材料科技与设备
【发表日期】
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2006年6期
【基金项目】
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国家863计划惯性约束聚变项目资助课题
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