【摘 要】
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非蒸散型吸气剂材料是近年来广泛应用于真空领域的一种重要材料,但过高的活化温度限制了它的应用场景.本文使用比例均匀一致的钛锆钒合金作为靶材,经直流磁控溅射沉积了活化性能良好的非蒸散型吸气剂薄膜,使用X射线光电子能谱对薄膜的表面化学状态进行了分析.结果 表明随着加热温度的升高薄膜表面成分呈现高氧化态一低氧化态一金属态的变化规律,该薄膜在150℃下加热后开始发生明显活化,并且在温度升高后活化程度进一步增高.薄膜在激活后具有良好的吸气性能,且薄膜的长时间使用具有可靠的稳定性.
【机 构】
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合肥工业大学 合肥230041;中国科学技术大学国家同步辐射实验室 合肥230029
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非蒸散型吸气剂材料是近年来广泛应用于真空领域的一种重要材料,但过高的活化温度限制了它的应用场景.本文使用比例均匀一致的钛锆钒合金作为靶材,经直流磁控溅射沉积了活化性能良好的非蒸散型吸气剂薄膜,使用X射线光电子能谱对薄膜的表面化学状态进行了分析.结果 表明随着加热温度的升高薄膜表面成分呈现高氧化态一低氧化态一金属态的变化规律,该薄膜在150℃下加热后开始发生明显活化,并且在温度升高后活化程度进一步增高.薄膜在激活后具有良好的吸气性能,且薄膜的长时间使用具有可靠的稳定性.
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