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大规模红外焦平面阵列器件固有的非均匀性,严重地制约着红外成像系统的性能,这是其应用中必须解决的一个关键问题.本文详尽地分析了产生非均匀性的各种因素,并对其校正原理进行了阐述,最后给出了基于参考源校正算法的仿真结果.
红外焦平面阵列非均匀性及校正分析
【摘 要】
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大规模红外焦平面阵列器件固有的非均匀性,严重地制约着红外成像系统的性能,这是其应用中必须解决的一个关键问题.本文详尽地分析了产生非均匀性的各种因素,并对其校正原理进
【机 构】
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西安电子科技大学技术物理学院,华北光电技术研究所
【出 处】
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激光与红外
【发表日期】
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2003年6期
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