VCP制程优化及设备对比探究

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在当前诸多公司引进了垂直连续电镀(简称VCP)电镀线的趋势下,本课题以不同VCP实际生产线情况为研究对象,通过试验对比及生产数据搜集,发现在优化液位高度、挂架间距、夹板深度后,使用合适的底屏、边屏高度,可有效改善垂直方向板件的电力线分布均匀性,减少电镀过程“边缘效应”的影响,从而提高镀层均匀性。通过设备差异对比分析,底屏及边屏分别移动3mm和15mm,对板底位置镀铜厚度与整板平均厚度值差会有约4%的影响。经过优化底屏、边屏高度后,配合我公司(贝加尔)药水,可将整板镀铜均匀性变化率(简称COV)值由7.96
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