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将制备好的单晶氧化镁（MgO）抛光基片分别置于空气、干燥箱和真空环境中,采用光学显微镜、3D表面轮廓仪及X射线光电子能谱仪研究基片表面的吸湿潮解变化。通过研究发现,单晶氧化镁（MgO）抛光基片的吸湿潮解行为会严重破坏晶体结构,影响表面质量。在不同的环境下,吸湿潮解行为对表面的破坏程度是不一样的。