非晶硅薄膜厚度均匀性对其透射光谱的影响

来源 :汕头大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:applebanana0204
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针对膜厚的均匀性对非晶硅薄膜透射光谱(400~1000nm)的影响问题,通过模拟计算分析在不同膜厚、厚度(线性)变化率和照射面积条件下,厚度均匀性对谱线的影响,结果表明这种影响主要发生在薄膜的无吸收区和弱吸收区,表现为峰一峰值变小和振荡周期畸变,减小照射面积可有效地降低这种影响。
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