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通过直流与脉冲电沉积分别制各平均晶粒度为20～30nm，宽晶粒度分布（5-120nm）的纳米镍。在室温静拉伸应变速率范围内，直流电沉积制备的纳米镍的平均抗拉强度和平均断裂延伸率分别为1176MPa与10．6％。而由脉冲电沉积技术制备的纳米镍抗拉强度可达1500MPa之上，最高断裂延伸率可达13．3％。与电沉积获得的普通窄晶粒度分布的纳米镍相比，宽晶粒度分布的纳米镍的塑性要高出100％以上。其原因是大型晶粒内部允许位错的存在，且理论计算表明，晶内位错可通过Frank—Read源机制进行增殖。