【摘 要】
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用X射线光电子能谱法（XPS）测定了BiI3与nylon11作用生成纳米复合材料后聚合物中酰胺基团的N、O内层能级电子结合能变化,同时用衰减全反射红外光谱法（ATR-IR）研究了BiI3-nylon11复
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用X射线光电子能谱法（XPS）测定了BiI3与nylon11作用生成纳米复合材料后聚合物中酰胺基团的N、O内层能级电子结合能变化,同时用衰减全反射红外光谱法（ATR-IR）研究了BiI3-nylon11复合材料中BiI3对尼龙酰胺基团之间氢键作用的影响.结果表明,与纯nylon11聚合物相比,BiI3-nylon11纳米复合材料中N1s、O1s的结合能要稍高一些;N-H伸缩振动、酰胺I谱带、酰胺Ⅱ谱带振动频率在X射线照射前均发生显著位移,而X射线照射后没有明显的变化,只是谱带变宽.另一方面,无论X射线照射
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