不同退火条件对PEALD制备的Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响

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【摘要】

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利用等离子增强原子层沉积技术(PEALD)在c面蓝宝石衬底上制备了氧化镓(Ga2O3)薄膜,研究了退火气氛(v(N2)∶v(O2)=1∶1(体积比)、空气和N2)及退火时间对Ga2O3薄膜晶体结构、表

【作者】

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马海鑫丁广玉邢艳辉韩军张尧崔博垚林文魁尹浩田黄兴杰

【机构】

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北京工业大学微电子学院,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

【出处】

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人工晶体学报

【发表日期】

：

2021年5期

【关键词】

：

氧化镓退火条件等离子增强原子层沉积晶体结构表面形貌光学性质

【基金项目】

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国家自然科学基金(61574011),北京市自然科学基金(4182015,4182014)。

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利用等离子增强原子层沉积技术(PEALD)在c面蓝宝石衬底上制备了氧化镓(Ga₂O₃)薄膜,研究了退火气氛(v(N₂)∶v(O₂)=1∶1(体积比)、空气和N₂)及退火时间对Ga₂O₃薄膜晶体结构、表面形貌和光学性质的影响。研究结果表明,退火前的氧化镓处于亚稳态,不同退火气氛下退火后晶体结构发生明显改变,而且退火气氛中N₂比例增加有

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