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以单头单面旋转式化学机械抛光机为例建立了抛光头的运动模型,并利用Matlab软件模拟出了抛光头的运动轨迹,分析并讨论了抛光盘和抛光头两者之间不同的转速比、旋转方向、偏心距以及抛光点的初始位置等参数对抛光轨迹和抛光质量的影响,为CMP机床的结构和运动设计提供理论依据.
单头单面旋转式化学机械抛光机的运动机理研究
【摘 要】
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以单头单面旋转式化学机械抛光机为例建立了抛光头的运动模型,并利用Matlab软件模拟出了抛光头的运动轨迹,分析并讨论了抛光盘和抛光头两者之间不同的转速比、旋转方向、偏心
【机 构】
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江南大学
【出 处】
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煤矿机械
【发表日期】
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2006年8期
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