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用磁控溅射新工艺取代传统的蒸发工艺，制造多种金属膜，用于大规模集成电路生产，改善了器件的性能，提高了成品率和可靠性。对多种金属膜作了简要结构性能分析，提出了其注意事项。
影响磁控溅射膜质量的工艺因素
【摘 要】
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用磁控溅射新工艺取代传统的蒸发工艺，制造多种金属膜，用于大规模集成电路生产，改善了器件的性能，提高了成品率和可靠性。对多种金属膜作了简要结构性能分析，提出了其注意事项。
【机 构】
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国营天光集成电路厂新品研究所
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1997年5期
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