预处理和溅射工艺参数对锆合金表面TiN涂层膜/基结合强度的影响

来源 :原子能科学技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：snowin11

【摘要】

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为获得高结合强度锆合金表面涂层的制备技术,采用磁控溅射法制备了TiN涂层、划痕法测试了膜/基结合强度,研究了基体预处理表面粗糙度、溅射功率、基体加热温度和基体偏压对锆

【作者】

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曹殿鹏邹树梁肖魏魏唐德文雷明

【机构】

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南华大学核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室,中国核工业集团有限公司,中核建中核燃料元件有限公司

【出处】

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原子能科学技术

【发表日期】

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2018年11期

【关键词】

：

锆合金 TiN涂层结合强度工艺参数划痕法

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为获得高结合强度锆合金表面涂层的制备技术,采用磁控溅射法制备了TiN涂层、划痕法测试了膜/基结合强度,研究了基体预处理表面粗糙度、溅射功率、基体加热温度和基体偏压对锆合金表面TiN涂层膜/基结合强度的影响。实验制备的TiN涂层厚度在5~15μm范围内、基体预处理表面粗糙度在(0.20±0.03)μm范围内时,溅射功率为500W及基体加热至300℃时涂层均有较好的结合强度。基体偏压为-100V时涂层在所讨论的4种基体偏压中具有最好的结合强度。结果表明,溅射工艺参数对涂层膜/基结合强度有显著影响,其

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