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本文报道了氟化物激光晶体Ｎｄ＾３＋：ＬｉＹＦ４的坩埚埚下降法生长工艺，采用经氟化处理的无水氟化物原料，按照ＬｉＦ：ＹＦ３＝５１５：４８．５的比例配料，控制炉体温度于９２０－９６０℃，晶体生长速度为０．４－０．８ｍｍ／ｈ，通过密闭条件下的坩埚下降法生长出尺寸为φ２５ｍｍ＊８０ｍｍ的完整单晶。
氟化物激光晶体Nd^3＋：LiYF4的坩埚下降法生长
【摘 要】
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本文报道了氟化物激光晶体Ｎｄ＾３＋：ＬｉＹＦ４的坩埚埚下降法生长工艺，采用经氟化处理的无水氟化物原料，按照ＬｉＦ：ＹＦ３＝５１５：４８．５的比例配料，控制炉体温度于９２０－９６０℃，晶体生长速度为０．４－０．８ｍｍ／ｈ，通过密闭条件下的坩埚下降法生长出尺寸为φ
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所
【出 处】
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无机材料学报
【发表日期】
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2000年5期
【基金项目】
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国家自然科学基金!（59672002）
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