中频磁控溅射制备类金刚石薄膜的功率因素研究

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sansyl
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采用SP0806AS中频磁控溅射镀膜机,在硅(100)和高速钢基体上,采用双石墨靶在不同功率下沉积了类金刚石薄膜。研究表明,在功率为5~7kW下薄膜具有较低的ID/IG比;所得薄膜表面平整,粗糙度Ra值在1.5~2.8nm之间,薄膜厚度随功率增加而增大;在100~200nmTi膜作为过渡层条件下,薄膜纳米硬度和弹性模量随功率增加呈先增大后减小趋势,硬度/杨氏模量比值先增大后减小,当功率为7kW时具有较高值;划痕实验临界载荷随功率增加先增大后减小,最大可大于50N;薄膜的摩擦系数较小,平均摩擦系数可小于0.
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