【摘 要】
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用脉冲激光沉积法在Si（100）衬底上制备了（110）择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜,研究了环境氧压对薄膜结晶度、取向、表面形貌和微结构的影响。结果表明：10Pa氧压下沉积的薄膜具有高
【机 构】
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北京工业大学材料学院,北京有色金属研究总院稀土材料国家工程中心
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用脉冲激光沉积法在Si（100）衬底上制备了（110）择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜,研究了环境氧压对薄膜结晶度、取向、表面形貌和微结构的影响。结果表明：10Pa氧压下沉积的薄膜具有高结晶度的（110）择优取向,晶粒分布均匀,晶粒分布均匀,表面均方根粗糙度Rrms为1.35 nm。与无明显择优取向的薄膜相比,（110）择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜具有较高的饱和磁化强度（Ms）、金属-绝缘体相变温度（TM-I）和较低的电阻率（ρ）。
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