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未来靡尔定律将遭遇挑战。在未来的至少十年内，AMD，IBM英特尔公司仍将继续使用硅来制造更小，更快的微处理器．但是有可能将利用远紫外线(Extreme Ultraviolet,EUV)电路印刷技术——这是一种在硅晶圆体上印刷电路的新型方式．它不再需要激光和透镜．而是使用氙气和微型反射镜。
远紫外线电路印刷技术——将摩尔定律延伸到下一个十年
【摘 要】
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未来靡尔定律将遭遇挑战。在未来的至少十年内，AMD，IBM英特尔公司仍将继续使用硅来制造更小，更快的微处理器．但是有可能将利用远紫外线(Extreme Ultraviolet,EUV)电路印刷技术—
【出 处】
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个人电脑
【发表日期】
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2003年8期
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