熔融法制备高岭石尉甲基苯磺酸插层复合物

来源 :非金属矿 | 被引量 : 0次 | 上传用户：q2101369

【摘要】

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以高岭石/二甲基亚砜(K/DMSO)为前驱体,用熔融法制备了高岭石/对甲基苯磺酸(K/p-TSA)插层复合物,并用XRD、FI-IR、TG-DSC对插层复合物进行了表征.结果表明:反应12h时,K/p-TSA

【作者】

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赵顺平王涛徐衡郭玉

【机构】

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安庆师范学院化学化工学院,光、电、磁功能配合物和纳米配合物安徽省重点实验室,安庆师范学院物理与电气工程学院

【出处】

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非金属矿

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

高岭石对甲基苯磺酸(p-TSA) 插层熔融 kaolinite p-toluene sulfonic acid(p-TSA) intercalated me

【基金项目】

：

安徽教育厅自然科学研究项目;

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以高岭石/二甲基亚砜(K/DMSO)为前驱体,用熔融法制备了高岭石/对甲基苯磺酸(K/p-TSA)插层复合物,并用XRD、FI-IR、TG-DSC对插层复合物进行了表征.结果表明:反应12h时,K/p-TSA插层复合物出现1.014nm、1.088nm、1.263nm、1.378nm四个衍射峰,插层率为89.7%,p-TSA分子在高岭石层间主要采取单层倾斜相和双层平卧相,并且K/p-TSA插层复合物在112℃以下较稳定.

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