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全球第一款利用远紫外线制造计算机芯片的完整设备原型机在美国问世,该项突破将使微处理器的速度达到当今最快的芯片的数十倍,并可使存储芯片的存储容量提高数十倍. 现有的平版印刷技术可使芯片制造商印制出宽度为0.1微米(相当于一根头发丝的千分之一)的电路.目前正在开发的先进的平版印刷技术EUV,可使半导体制造商印制出宽度小于0.1微米(最低达到0.03微米)的线路,从而使当今半导体业界继续保持现有的创新加速度至2010年.