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介绍了双面光刻对准原理及技术新发展，表明了不变焦对准的技术优势。针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样，经重新调焦，利用基片透明属性透过基片标记观测掩模标记实现对准，不再采用静态存储的掩模数字图像作为精对准基准，规避了可能由物镜侧移带来的对准误差。最后提供了几种常用的对准标记图样，并为了加工操作的便利引入了辅助搜索线。