【摘 要】
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利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保
【机 构】
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苏州大学光电科学与工程学院&,苏州纳米科技协同创新中心,江苏省先进光学制造技术重点实验室&,教育部现代光学技术重点实验室
【基金项目】
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装备预研项目(No.41423030101),国家自然科学基金资助项目(No.60907017),上海市全固态激光器与应用技术重点实验室开放课题(No.2014ADL02),江苏高校优势学科建设工程(PAPD)资助项目
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利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模。实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响。实
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