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测定了化学抛光过程中紫铜的表面光反射率，失重，表面形貌和电位随时间的变化以及抛光过程的电流－电位曲线。结果表明，紫铜的化学抛光过程由浸蚀，光亮和过腐蚀三个阶段组成。电抛光的印化膜理论也出样适用于紫铜的化学抛光。
紫铜化学抛光的电化学研究
【摘 要】
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测定了化学抛光过程中紫铜的表面光反射率，失重，表面形貌和电位随时间的变化以及抛光过程的电流－电位曲线。结果表明，紫铜的化学抛光过程由浸蚀，光亮和过腐蚀三个阶段组成。电抛光
【机 构】
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南京大学化学系
【出 处】
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电化学
【发表日期】
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1996年3期
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