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采用微波等离子体化学气相淀积法，以Ｃ６０膜过渡层，在光滑的单晶Ｓｉ衬底（１００）表面的研磨的石英衬底表面等光学衬底上，首次在无衬底负偏压条件下生长出多晶金刚石薄膜，通过扫描电镜观察到生长膜晶粒呈莱花状，生长表面为金刚石（１００）界面。
富勒烯作为过渡层生长金刚石薄膜研究
【摘 要】
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采用微波等离子体化学气相淀积法，以Ｃ６０膜过渡层，在光滑的单晶Ｓｉ衬底（１００）表面的研磨的石英衬底表面等光学衬底上，首次在无衬底负偏压条件下生长出多晶金刚石薄膜，通过扫描电镜观察到生长膜
【机 构】
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湘潭大学物理系,郑州大学物理系,合肥工业大学应用物理系
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1996年5期
【基金项目】
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国家教委年轻教师基金,湖南省自然科学基金
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