【摘 要】
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本文介绍了辉光放电等离子体增强气相沉积(PECVD)TiN的设备研制、工艺特点及影响因素。试验结果表明,PECVD克服了CVD、PVD的某些缺点,沉积温度降到650℃以下,TiN涂层的硬度高
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本文介绍了辉光放电等离子体增强气相沉积(PECVD)TiN的设备研制、工艺特点及影响因素。试验结果表明,PECVD克服了CVD、PVD的某些缺点,沉积温度降到650℃以下,TiN涂层的硬度高达HV1800以上,耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化,沉积速率快,涂层均匀致密。实际应用效果良好。
This paper introduces the equipment development, process characteristics and influencing factors of Glow Discharge Plasma Enhanced Vapor Deposition (PECVD) TiN. The results show that PECVD overcomes the disadvantages of CVD and PVD. The deposition temperature is below 650 ℃. The hardness of TiN coating is up to HV1800. It is wear-resistant, corrosion-resistant and resistant to high temperature oxidation. The deposition rate is fast and the coating is even and compact . Practical application of good results.
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