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采用浸渍法制备了Ni／SiO2催化剂，应用等离子体技术对催化剂进行改性处理。以CO2甲烷化为模型反应对催化剂进行活性评价，通过H2程序升温还原（H2-TPR）和CO2程序升温脱附（CO2-TPD）技术对催化剂进行表征。研究了等离子体技术强化处理对催化剂吸附性能和还原性能的影响。结果表明，与常规焙烧的催化剂相比，等离子体技术改性处理提高了催化剂活性组分的分散度，增加反应活性位并调变了活性位对吸附物种的吸附强度，改进了催化剂的还原性能，CO2甲烷化反应活性和甲烷的时空产率显著提高。