【摘 要】
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1.厂名:营口市晶体管厂项目:二氧化硅溅射工艺条件效果:原来溅射一次硅片(每次100多片)需要8～12小时,现在只要4～5小时,每天可节电4度,提高工效一倍。2.厂名:营口市晶体管厂项
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1.厂名:营口市晶体管厂项目:二氧化硅溅射工艺条件效果:原来溅射一次硅片(每次100多片)需要8～12小时,现在只要4～5小时,每天可节电4度,提高工效一倍。2.厂名:营口市晶体管厂项目:硅片磨角机转数效果:过去采用转数为800转/分,磨一片硅需要10分钟,消耗金刚砂3克。优选后,转数为1400转/分,磨一片6分钟,消耗金刚砂
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