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金刚石膜因其优异的电学、光学等性能已成为优越的辐射探测器材料，但探测器性能强烈地依赖于薄膜质量。本工作利用热丝化学气相沉积(HFCVD)法获得了(100)取向不同质量的金刚石薄膜，并制备了CVD金刚石辐射探测器。应用5．9keV^55 FeX射线测试了探测器的光电流响应和脉冲高度分布。50kV／cm外电场作用下晶粒为10μm的CVD金刚石探测器的暗电流和光电流分别为16．3和16．8nA。光电流随辐照时间延长而增大，尔后趋于稳定。脉冲高度峰与噪声明显分离。探测器具有较高的计数效率和信噪比。