碱性抛光液中抑制剂TT-LYK对Cu/Co电偶腐蚀的影响

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研究了在甘氨酸和H2O2体系下加入新型抑制剂2,2′-[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基]双乙醇(TT-LYK)对Cu/Co电偶腐蚀的影响。由化学机械抛光(CMP)实验结果可知,随着抑制剂体积分数的不断提高,Cu的去除速率和静态腐蚀速率均大幅减小,Co的去除速率和静态腐蚀速率相对Cu的变化较小,较好地保证了Cu/Co之间的去除速率选择比。动、静态Cu/Co电化学实验结果对比表明:当H2O2体积分数为0.15%,甘氨酸质量分数为1%时,在H2O2与甘氨酸之间的协同作用下,Co的标准电极电位低于Cu的,从而抑制了Co的腐蚀。加入体积分数0.1%的TT-LYK后,抑制剂与Cu反应生成致密氧化膜,抑制了Cu的腐蚀,但其对Co的影响较小,从而使Cu/Co电位差降低至4 mV,较好地抑制了Cu/Co之间的电偶腐蚀。
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