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化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量
化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量
来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ccj5310110
【摘 要】
:
报道了化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量,提出了监控金刚石薄膜生长的激光反射多光束干涉的数学模型。通过原位反射率的测量,精确监控了金刚石薄膜的生长厚度,成功
【作 者】
:
骆金龙
应萱同
【机 构】
:
复旦大学信息学院光科学与工程系
【出 处】
:
功能材料与器件学报
【发表日期】
:
2001年3期
【关键词】
:
CVD
金刚石薄膜
原位测量
反射率
CVDdiamond thin filmin situ measurementreflectivity
【基金项目】
:
上海应用物理中心联合资助项目
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报道了化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量,提出了监控金刚石薄膜生长的激光反射多光束干涉的数学模型。通过原位反射率的测量,精确监控了金刚石薄膜的生长厚度,成功地制备了红外增透膜。这种方法的测量装置简单、紧凑而且可靠。
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