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采用磁控溅射法制备出V/Zr比为2：1的非晶态锆钒合金膜,系统研究了合金膜的物相、表面成分、生长形貌和动态力学性能。研究结果表明,在533～773K的沉积温度区间内,合金膜呈现非晶态,表面存在约26nm厚的氧化层,其组成与膜基体显著不同;合金膜在钼基片上以球形岛状模式生长;膜的动态硬度DHT115和弹性模量Eit/（1-υ^2）随沉积温度的升高在583K处出现极大值,分别达到436.8GPa和1.13E＋5N/mm^2。