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期刊论文
大电流阴极的发射性能研究
大电流阴极的发射性能研究
来源 :电子器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong504
【摘 要】
:
研究了新型钡钨阴极发射性能,并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构.该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴极生
【作 者】
:
张红卫
丁耀根
白振纲
【机 构】
:
中国科学院研究生院,中国科学院电子所
【出 处】
:
电子器件
【发表日期】
:
2003年3期
【关键词】
:
钡钨阴极
工业CT
扫描电镜
图像分析
Cathode
Industried CT
SEM
Imaging analysis
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研究了新型钡钨阴极发射性能,并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构.该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴极生产工艺,而且发射性能要优于传统工艺阴极.
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