一种用于半导体厂房的洁净室技术领域

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随着半导体厂房对环境要求越来越高,尤其是高端半导体产品对腐蚀性气体的含量要求越来越高,现有的洁净室技术并不能满足这些高端半导体的生产厂房(如32 nm/28 nm高端制程)的洁净要求。因此,开发一种低成本的洁净室,并能避免腐蚀性气体影响,对于一些高端半导体的生产厂房具有积极的显示意义。
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