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介绍了利用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件的原理和方法，给出了制作结果。
用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件
【摘 要】
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介绍了利用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件的原理和方法，给出了制作结果。
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1997年S1期
【基金项目】
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国家863高技术和中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室基金
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