【摘 要】
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用化学气相沉积法 (CVD)在碳 /碳复合材料表面沉积 Ti C涂层。研究了工艺参数对 Ti C涂层的相组成和表面形貌的影响以及 CVD Ti C涂层的沉积机理。实验结果表明 ,当进入沉积
【机 构】
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用化学气相沉积法 (CVD)在碳 /碳复合材料表面沉积 Ti C涂层。研究了工艺参数对 Ti C涂层的相组成和表面形貌的影响以及 CVD Ti C涂层的沉积机理。实验结果表明 ,当进入沉积室的气体流量 (m L· min-1 )比为 H2 ∶ Ti Cl4∶ CH4=30 0∶ 2 5∶ 1 0时 ,所得涂层中含较少的游离碳 ,Ti C纯度较高。随 CH4流量增加 ,游离碳含量增加。沉积温度对 Ti C的形貌有明显影响 ,较低温度下沉积的 Ti C粒子尺寸小 ,分布均匀 ,随温度升高 ,Ti C的粒径增大 ,涂层质量降低
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