【摘 要】
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本文采用先进的中频磁控溅射技术及合理的工艺配置制备了可热弯低辐射薄膜，对Low-E膜系结构和制备工艺进行了研究，通过生产试验和检测，找到最佳阻挡层工艺参数。以上研究在连续
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本文采用先进的中频磁控溅射技术及合理的工艺配置制备了可热弯低辐射薄膜，对Low-E膜系结构和制备工艺进行了研究，通过生产试验和检测，找到最佳阻挡层工艺参数。以上研究在连续生产线设备上进行，与生产要求的条件完全一致，并实现了商业化生产。研究表明：阻挡层TiOx薄膜的氧气流量是影响整个膜系性能的关键因素，适当的分压可以有效提高膜系可加工性。本文研究方法制备的薄膜可经受700℃的热弯和夹胶处理，达到了预期结果，用分光光度计对镀膜夹层玻璃进行测试：可见光区（380nm~780nm）的透过率为71%，反射率为15%
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