【摘 要】
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工艺参数的变异导致半导体制造过程的偏差。这种变异无法避免而且在深亚微米领域,受限于光刻分辨率;氧化层腐蚀造成厚度的改变,因化学机械抛光铜金属线使铜金属层所造成的不
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工艺参数的变异导致半导体制造过程的偏差。这种变异无法避免而且在深亚微米领域,受限于光刻分辨率;氧化层腐蚀造成厚度的改变,因化学机械抛光铜金属线使铜金属层所造成的不平坦碟型缺陷等种种因素变得更加严重。除了工艺上的变异之外,电源电压以及操作温度也可能造成芯片上变异。这些芯片上变异通常建模为预估电路性能的某个百分比。环形振荡器在芯片上变异监控器中,被最广泛地作为性能指标。在过去,一般要花一到两周利用全手工定制对每个不同的工艺节点来实现工艺监控器的布局。然后,我们也必须手工将监控器单元放入芯片。这样做总是增加芯片
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