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利用磁控溅射方法在Si衬底上制备了Cu/Fe多层薄膜, 采用XPS方法及Ar离子对薄膜样品进行刻蚀. 研究表明, 在多层薄膜的溅射界面存在合金, 并观测到溅射层向基体扩散的现象.
Fe／Cu巨磁阻多层薄膜的XPS研究
【摘 要】
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利用磁控溅射方法在Si衬底上制备了Cu/Fe多层薄膜, 采用XPS方法及Ar离子对薄膜样品进行刻蚀. 研究表明, 在多层薄膜的溅射界面存在合金, 并观测到溅射层向基体扩散的现象.
【机 构】
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吉林大学测试科学实验中心,吉林大学集成光电子国家重点联合实验室,江南大学信息工程与科学学院,吉林大学材料科学与工程学院
【出 处】
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吉林大学学报(理学版)
【发表日期】
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2003年1期
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