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用直流溅射法在聚酰亚胺(PI)基底上制备了300 nm厚的Al膜,并进行快速退火(RTA)处理。用X射线衍射、扫描电子显微镜和曲率法对Al薄膜的微结构及应力随退火温度和时间的变化进行了研究。结果表明,采用快速退火可以使其压应力松弛,甚至转变成张应力。
快速退火对溅射沉积Al膜微结构及应力的影响
【摘 要】
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用直流溅射法在聚酰亚胺(PI)基底上制备了300 nm厚的Al膜,并进行快速退火(RTA)处理。用X射线衍射、扫描电子显微镜和曲率法对Al薄膜的微结构及应力随退火温度和时间的变化进
【机 构】
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兰州物理研究所
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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2008年01期
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