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采用磁控溅射法在（001）LiNbO3衬底上制备了ZnO薄膜，并对其进行了退火处理。利用X射线衍射仪（XRD）、紫外-可见光谱仪和光致发光谱（PL）对ZnO薄膜的结构和光学性能进行了分析。结果表明，ZnO薄膜具有（002）的择优取向，退火后ZnO薄膜的（002）衍射峰的强度增强，半高宽减小，（002）峰向高角度方向移动。退火后样品可见光透过率增加，光学带隙发生红移。退火后的样品，紫外发光峰强度增强，可见光发光峰强度相对减弱。