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分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜。研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件，利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行特征，并对Cu/Co多层膜的巨磁阻性能进行了测试。采用电沉积多层膜的方法，以多孔铝阳极氧化膜（AAO）为模板，在纳米孔内沉积Cu/Co多层线，采用TEM对多层纳米线进行了表征。