整体式空腔Cu靶的化学镀制备工艺

来源 :原子能科学技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qncy1239o

【摘要】

：

对整体式空腔Cu靶的化学镀制备工艺和靶表面抗腐蚀处理进行了研究.选用有机玻璃(PMMA)作芯铀,对芯轴表面活化处理,在芯轴表面化学镀Cu,再用苯骈三氮唑(C6H5N3)溶液钝化处理Cu

【作者】

：

刘继光万小波付渠周兰肖江

【机构】

：

西南科技大学,中国工程物理研究院

【出处】

：

原子能科学技术

【发表日期】

：

2005年1期

【关键词】

：

惯性约束聚变 Cu靶化学镀表面钝化抗腐蚀处理 Copper Electroless plating Laser fusion Polymethyl met

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对整体式空腔Cu靶的化学镀制备工艺和靶表面抗腐蚀处理进行了研究.选用有机玻璃(PMMA)作芯铀,对芯轴表面活化处理,在芯轴表面化学镀Cu,再用苯骈三氮唑(C6H5N3)溶液钝化处理Cu靶表面,溶蚀芯轴,最终获得整体式空腔Cu靶.该法工艺简单,制备费用较低,对惯性约束聚变研究所需其它金属或合金空腔靶的制备具有较高的参考价值.

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